全自动单双面曝光机，兼容方形片光刻   2-8寸晶圆单、双面曝光机   灵活多选定制

主要应用：MEMS制造、CMOS图像传感器、存储器、声波器件、微流体芯片、化合物半导体、  晶圆级先进封装、（TSV）等领域。

HAIS800系列步进投影光刻机应用于8英寸以下基底先进光刻应用领域，

满足HB-LED、MEMS和Power Devices等领域单面或双面光刻工艺需求。

产品特点

高分辨率，分辨率可达0.5μm

高速在线MAPPING技术

高精度拼接

多尺寸基底自适应切换

高产能

高精度套刻