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海思全自动接触式光刻机新发展
发布时间：2023-07-31
浏览：1505
海思全自动接触式光刻机迎来新飞跃
1◆ 按照曝光方式分类
光刻机在曝光方式上可以分为三类：接触式光刻机、接近式光刻机和投影式光刻机。接近式光刻机在光刻工艺中应用广泛，并具有高效率、低成本的优势。
2◆按照应用领域分类
全自动Mask Aligner光刻机设备
应用领域
适用于半导体、封装、LED、Mini/Micro LED、5G通讯、新型光学器件、MEMS、PCB、化合物半导体、光伏、功率器件等行业。
主要特点
● 三高：高分辨率、高精度套刻、高产能，全自动运行；
● 高效的自动对准，客制化操作界面及功能；
● 模块化设计，定制化生产，可选汞灯/LED、自动/手动、单/双面曝光